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                  P1000生产型分子束外延系统

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                  功能概述
                  技术指标
                  安装条件

                  关键指标:

                  ◆可移动的源法兰和上下分体式冷屏

                  ◆可提供两套冷屏

                  ◆冷屏可在2个工作日内更换

                  ◆可用于外延生长GaAs, GaSb, InP, GaN材料

                  ◆适用于用于4×4”, 7×3”, 1 x 200 mm, 1×6” and 14×2”衬底尺寸

                   

                  介绍:

                  P1000 是全自动生产型的MBE系统。晶片通过中心分配室(CDC)全自动的传递,一次最多可处理40片(4英寸)晶片。CDC可以同时连接两个生长室,一个进样室,一个超高真空存储室,和一个高温除气和氢处理室。P1000的生长室的设计适合长时间的生长,方便设备的维护和保养。生长室配有可移动的源法兰。该设计把生长室分成上下两个部分,可彻底的清理冷屏上的沉积物。生长室的冷屏具有非常大的表面积和容积,确保在生长过程中提高五族元素抽取的效率。

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